Suzhou Haichuan Rare Metal Products Co., Ltd.
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Hohe Reinheit 4N5 Titanspritzerziele Runde Scheiben Ziel für die Beschichtung

Produkt-Details

Herkunftsort: China

Markenname: HaiChuan

Zertifizierung: ISO9001

Modellnummer: 20

Zahlungs-u. Verschiffen-Ausdrücke

Min Bestellmenge: 10 kg

Preis: $270-290/kg

Verpackung Informationen: Holzkisten

Lieferzeit: 10-15days

Zahlungsbedingungen: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram

Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 10ton pro Monat

Erhalten Sie besten Preis
Höhepunkt:

Reinheit rundes Ziel

,

4N5-Rundziel

,

Titansputtern ISO9001

Material:
Titanium
Form:
Gewohnheit, Runde
Herkunftsort:
Jiangsu, China
Anwendung:
Industrie
Standard:
ASTM
Material:
Titanium
Form:
Gewohnheit, Runde
Herkunftsort:
Jiangsu, China
Anwendung:
Industrie
Standard:
ASTM
Hohe Reinheit 4N5 Titanspritzerziele Runde Scheiben Ziel für die Beschichtung

mit einem Durchmesser von mehr als 20 mm,

Ein Titan-Sputterziel ist ein schichtförmiges Material aus hochreinem Titanmetall, das bei einem Verfahren namens Sputtering verwendet wird.die Atome von der Zieloberfläche abschlagen und auf einem Substrat absetzen, um einen dünnen Film zu erzeugen.

 

Zusammensetzung
(in %)
Reinheit
Größe des Körners
Verfahren
TiSi93/7
99.80%
< 100 mm
HIP
TiSi92/8
99.80%
< 100 mm
HIP
TiSi90/10
99.80%
< 100 mm
HIP
TiSi85/15
99.80%
< 100 mm
HIP
TiSi80/20
99.80%
< 100 mm
HIP
TiSi75/25
99.80%
< 100 mm
HIP

 

 
Größe ((mm)
Für den Fall, dass die in Anhang I der Verordnung (EU) Nr. 528/2012 aufgeführten Daten nicht für die Zwecke dieser Verordnung geeignet sind, werden diese Daten in Anhang I der Verordnung (EU) Nr. 528/2012 aufgenommen.
Individualisiert
Die maximale Länge des rechteckigen Ziels kann 1800mm erreichen, und der Durchmesser des kreisförmigen Ziels kann 340mm erreichen
Zertifizierung
ROHS
Schnüffeln
- Ich weiß.

 

Hohe Reinheit 4N5 Titanspritzerziele Runde Scheiben Ziel für die Beschichtung 0

 

Eigenschaften:

Hohe Reinheit: Titan-Sputterziele bestehen aus hochreinem Titanmetall, typischerweise 99,99% oder mehr, um die höchste Qualität und Konsistenz des abgelagerten dünnen Films zu gewährleisten.

Anpassungsfähige Größe und Form: Titan-Sputterziele sind in verschiedenen Größen und Formen erhältlich, darunter rund, rechteckig und ringförmig, um die spezifischen Anforderungen des Sputterprozesses zu erfüllen.

Gute Wärme- und elektrische Leitfähigkeit: Titansputterziele weisen eine gute Wärme- und elektrische Leitfähigkeit auf, was sie für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet macht.

Hoher Schmelzpunkt: Titan hat einen hohen Schmelzpunkt von 1668°C, was es für Sputteranwendungen bei hohen Temperaturen geeignet macht.

 

Anwendungsbereich:

Halbleiterindustrie: Titansputterziele werden in der Halbleiterindustrie verwendet, um dünne Folien aus Titan und Titan-basierten Materialien für integrierte Schaltungen, Mikroprozessoren,mit einer Breite von mehr als 20 mm,.

Optikindustrie: Titan-Sputterziele werden in der Optikindustrie verwendet, um dünne Titanfolien für Spiegel, Filter und andere optische Komponenten abzulegen.

Solarenergieindustrie: Titan-Sputterziele werden in der Solarenergieindustrie zur Ablagerung dünner Titanfolien und Titan-basierter Materialien für Solarzellen und andere Photovoltaikgeräte verwendet.

Automobilindustrie: Titan-Sputterziele werden in der Automobilindustrie verwendet, um Beschichtungen auf Motorenkomponenten abzulegen, um ihre Leistung und Haltbarkeit zu verbessern.

Medizinische Geräte: Titan-Sputterziele werden aufgrund der Biokompatibilität und Korrosionsbeständigkeit von Titan bei der Herstellung von Medizinprodukten einschließlich Implantaten und diagnostischen Sensoren verwendet.