prodotti

Casa > prodotti > Parti metalliche personalizzate > Alte purezza 4N5 Titanio Sputtering Target Dischi rotondi Target per il rivestimento

Categorie

Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528

(5)

Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528

(3)

Resistenza riscaldamento del filo

(15)

Filato di lega ad alta temperatura

(5)

Parti metalliche personalizzate

(28)

Parti metalliche su misura

(4)

Contatti

Contatti: Mr. Jade

Telefono: 86--18015519516

Contatto ora

Spedicaci

Alte purezza 4N5 Titanio Sputtering Target Dischi rotondi Target per il rivestimento

Name: Alte purezza 4N5 Titanio Sputtering Target Dischi rotondi Target per il rivestimento
Brand: HaiChuan
SKU: 20
Price: 270 USD
Availability: InStock
Rating: 4.6 (188 reviews)

Dettagli del prodotto

Luogo di origine: Cina

Marca: HaiChuan

Certificazione: ISO9001

Numero di modello: 20

Termini di trasporto & di pagamento

Quantità di ordine minimo: 10 kg

Prezzo: ＄270-290/kg

Imballaggi particolari: Scatole di legno

Tempi di consegna: 10-15days

Termini di pagamento: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram

Capacità di alimentazione: 10ton al mese

Ottenga il migliore prezzo

Dettagli del prodotto

Descrizione di prodotto

Punto culminante: 
                                                                                                                                                                                                                obiettivo di purezza rotondo, Obiettivo 4N5, Sputtering di titanio ISO9001
                              

Materiale:	Titanio	Forma:	abitudine, giro
Luogo di origine:	Jiangsu, Cina	Applicazione:	Industria
standard:	ASTM

Materiale:	Titanio
Forma:	abitudine, giro
Luogo di origine:	Jiangsu, Cina
Applicazione:	Industria
standard:	ASTM

Alte purezza 4N5 Titanio Sputtering Target Dischi rotondi Target per il rivestimento

bersaglio di sputtering in titanio 4N5 ad alta purezza, bersaglio a dischi rotondi per rivestimento

Un bersaglio di sputtering di titanio è un materiale a forma di disco realizzato in metallo di titanio di alta purezza ed è utilizzato in un processo chiamato sputtering.che abbatte gli atomi dalla superficie bersaglio e li deposita su un substrato per creare un film sottile.

Composizione (in %)	Purezza	Dimensione del grano	Processo
TiSi93/7	99.80%	< 100 mm	HIP
TiSi92/8	99.80%	< 100 mm	HIP
TiSi90/10	99.80%	< 100 mm	HIP
TiSi85/15	99.80%	< 100 mm	HIP
TiSi80/20	99.80%	< 100 mm	HIP
TiSi75/25	99.80%	< 100 mm	HIP

Dimensione ((mm)	Φ160×12 / Φ100×32 / Φ105×16 / Φ63×32 / 74119118 Personalizzato La lunghezza massima di bersaglio rettangolare può raggiungere 1800mm, e il diametro di bersaglio circolare può raggiungere 340mm
certificazione	RoHS
il bongding	- Va bene.

Alte purezza 4N5 Titanio Sputtering Target Dischi rotondi Target per il rivestimento 0

Caratteristiche:

Alta purezza: gli obiettivi di sputtering in titanio sono realizzati con titanio metallico di alta purezza, in genere al 99,99% o superiore, per garantire la massima qualità e consistenza della pellicola sottile depositata.

Dimensioni e forma personalizzabili: gli obiettivi di sputtering in titanio sono disponibili in varie dimensioni e forme, tra cui rotonde, rettangolari e anulare, per soddisfare i requisiti specifici del processo di sputtering.

Buona conduttività termica ed elettrica: gli obiettivi di sputtering in titanio hanno una buona conduttività termica ed elettrica, che li rende adatti a una vasta gamma di applicazioni.

Punto di fusione elevato: il titanio ha un punto di fusione elevato di 1668°C, che lo rende adatto per applicazioni di sputtering ad alta temperatura.

Applicazioni:

Industria dei semiconduttori: gli obiettivi di sputtering in titanio sono utilizzati nell'industria dei semiconduttori per depositare film sottili di titanio e materiali a base di titanio per circuiti integrati, microprocessori,con una lunghezza massima non superiore a 50 mm.

Industria ottica: gli obiettivi di sputtering in titanio sono utilizzati nell'industria ottica per depositare film sottili di titanio per specchi, filtri e altri componenti ottici.

Industria dell'energia solare: gli obiettivi di sputtering in titanio sono utilizzati nell'industria dell'energia solare per depositare film sottili di titanio e materiali a base di titanio per celle solari e altri dispositivi fotovoltaici.

Industria automobilistica: gli obiettivi di sputtering in titanio sono utilizzati nell'industria automobilistica per depositare rivestimenti sui componenti del motore per migliorare le loro prestazioni e la loro durata.

Dispositivi medici: gli obiettivi di sputtering in titanio sono utilizzati nella produzione di dispositivi medici, inclusi impianti e sensori diagnostici, a causa della biocompatibilità e della resistenza alla corrosione del titanio.

Tags:

99.9995% Granuli metallici Purezza Particelle di rame Pellets di rame puro Prezzo basso Particella di rame di qualità superiore

Ottenga il migliore prezzo

Leghe metalliche rare

Prodotto di tungsteno

Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528

Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528

Fabbricazione di tungsteno

Polvere del tungsteno

Lega del tungsteno

Prodotto di molibdeno

Metallo di molibdeno

Fabbricazione di molibdeno

Polvere di molibdeno

Lega di molibdeno

metalli di terra rara

titanio puro

Niobio puro

tantalio puro

Nichel puro

Zirconio puro

Magnesio puro

Hafnium puro

Zinc puro

Gallio puro

Parti della lega

Resistenza riscaldamento del filo

Lega di NiCr

Lega di CuNi

Filato di lega ad alta temperatura

Parti metalliche personalizzate

farfugliare obiettivo

Cubi di elementi metallici

Granuli metallici

Metalli in lega liquida

Parti metalliche su misura

Alte purezza 4N5 Titanio Sputtering Target Dischi rotondi Target per il rivestimento

obiettivo di purezza rotondo

Obiettivo 4N5

Sputtering di titanio ISO9001

obiettivo di purezza rotondo,

Obiettivo 4N5,

Leghe metalliche rare

Prodotto di tungsteno

Prodotto di molibdeno

metalli di terra rara

Resistenza riscaldamento del filo

Parti metalliche personalizzate