Détails de produit
Lieu d'origine: Chine
Nom de marque: HaiChuan
Certification: ISO9001
Numéro de modèle: 21
Conditions de paiement et d'expédition
Quantité de commande min: 10 kg ou plus
Prix: $280-300/kg
Détails d'emballage: Boîte en bois
Délai de livraison: 10-15days
Conditions de paiement: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacité d'approvisionnement: 10ton par mois
Matériel: |
Tantale |
Forme: |
coutume, plat |
Lieu d'origine: |
Jiangsu, Chine |
Application du projet: |
Le secteur industriel |
Taille: |
personnalisation |
Matériel: |
Tantale |
Forme: |
coutume, plat |
Lieu d'origine: |
Jiangsu, Chine |
Application du projet: |
Le secteur industriel |
Taille: |
personnalisation |
Plaque de tantale 99,95% Targets de pulvérisation de tantale pur/plaque de tantale/feuille/disque
Une cible de pulvérisation de tantale est un matériau en forme de disque en tantal de haute pureté et est utilisé dans un processus appelé pulvérisation.qui détachent les atomes de la surface cible et les déposent sur un substrat pour créer un film mince.
Caractéristiques:
Haute pureté: les cibles de pulvérisation de tantale sont fabriquées à partir de métaux tantale de haute pureté, généralement 99,99% ou plus, afin d'assurer la plus haute qualité et la plus grande consistance du film mince déposé.
Taille et forme personnalisables: Les cibles de pulvérisation au tantale sont disponibles en différentes tailles et formes, y compris rondes, rectangulaires et annulaires, pour répondre aux exigences spécifiques du processus de pulvérisation.
Bonne conductivité thermique et électrique: les cibles de pulvérisation au tantale ont une bonne conductivité thermique et électrique, ce qui les rend adaptées à une gamme d'applications.
Point de fusion élevé: le tantale a un point de fusion élevé de 2996°C, ce qui le rend adapté aux applications de pulvérisation à haute température.
Applications:
Industrie des semi-conducteurs: les cibles de pulvérisation au tantale sont utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs pour déposer des films minces de tantale et de matériaux à base de tantale pour les circuits intégrés, les microprocesseurs,et autres composants électroniques.
Industrie de l'optique: Les cibles de pulvérisation au tantale sont utilisées dans l'industrie de l'optique pour déposer de minces films de tantale pour les miroirs, les filtres et autres composants optiques.
Industrie aérospatiale: les cibles de pulvérisation au tantale sont utilisées dans l'industrie aérospatiale pour déposer des revêtements sur les engins spatiaux et les satellites afin d'améliorer leurs performances et leur durabilité.
Dispositifs médicaux: Les cibles de pulvérisation au tantale sont utilisées dans la production de dispositifs médicaux, y compris les implants et les capteurs de diagnostic, en raison de la biocompatibilité et de la résistance à la corrosion du tantale.
Industrie de l'énergie: les cibles de pulvérisation au tantale sont utilisées dans l'industrie de l'énergie pour déposer des revêtements sur des pièces de réacteurs nucléaires et dans des piles à combustible afin d'améliorer les performances et la durabilité.