Suzhou Haichuan Rare Metal Products Co., Ltd.
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Placa de tántalo 99,95% blanco de pulverización de tántalo puro / placa de tántalo / hoja / disco

Detalles del producto

Lugar de origen: China.

Nombre de la marca: HaiChuan

Certificación: ISO9001

Número de modelo: 21

Pago y términos de envío

Cantidad de orden mínima: 10 kg de peso

Precio: $280-300/kg

Detalles de empaquetado: Caja de madera

Tiempo de entrega: 10-15days

Condiciones de pago: Las condiciones de los productos incluidos en el presente Reglamento son las siguientes:

Capacidad de la fuente: 10ton por mes

Consiga el mejor precio
Punto culminante:

99.95% Objetivo de pulverización puro

,

Objetivo de pulverización de tántalo

,

Tántalo Disco de placa

El material:
Tantalio
Forma de las piezas:
aduana, placa
Lugar de origen:
Jiangsu, China
Aplicación:
Industria
Tamaño:
de costumbre
El material:
Tantalio
Forma de las piezas:
aduana, placa
Lugar de origen:
Jiangsu, China
Aplicación:
Industria
Tamaño:
de costumbre
Placa de tántalo 99,95% blanco de pulverización de tántalo puro / placa de tántalo / hoja / disco

Placa de tántalo 99,95% blanco de pulverización de tántalo puro/placa de tántalo/hoja/disco

 

Un blanco de pulverización de tántalo es un material en forma de disco hecho de metal tántalo de alta pureza y se utiliza en un proceso llamado pulverización.que eliminan los átomos de la superficie de destino y los depositan en un sustrato para crear una película delgada.

 

 

Nombre del producto
fórmula molecular
Purificación
Especificación
Objetivo de renio
- ¿ Qué?
4N-5N
Personalizado para el objetivo del avión, objetivo giratorio, objetivo del tubo, etc.
Objetivo de tántalo
- ¿ Qué?
3N-4N
Objetivo de niobio
Nb
3N-4N
Objetivo de vanadio
V.
3N-4N
Objetivo de titanio
Ti
2N5-4N
Objetivo de cromo
Crónica
2N5-4N
Objetivo de cobre
Cu
3N-5N
Objetivo de aluminio
- ¿ Qué?
2N5-4N
Objetivo de cobalto
Co.
3N5
Objetivo de níquel
¿ Qué?
3N-5N
Objetivo de rutenio
Ru
3N-4N
Objetivo de iridio
¿Qué es?
3N-4N
Objetivo de rodio
RH
4N
Objetivo bismuto
- ¿ Por qué?
3N-4N
Objetivo de paladio.
Pd
3N-4N
Objetivo de plata
Ag
4N-5N
Objetivo de oro
¿Qué es?
4N-5N

 

Placa de tántalo 99,95% blanco de pulverización de tántalo puro / placa de tántalo / hoja / disco 0

 

Características:

Alta pureza: los objetivos de pulverización de tántalo están hechos de metal tántalo de alta pureza, generalmente del 99,99% o más, para garantizar la más alta calidad y consistencia de la película fina depositada.

Tamaño y forma personalizables: los objetivos de pulverización de tántalo están disponibles en varios tamaños y formas, incluidos redondos, rectangulares y anulares, para satisfacer los requisitos específicos del proceso de pulverización.

Buena conductividad térmica y eléctrica: los objetivos de pulverización de tántalo tienen una buena conductividad térmica y eléctrica, lo que los hace adecuados para una variedad de aplicaciones.

Punto de fusión alto: el tántalo tiene un punto de fusión alto de 2996 °C, por lo que es adecuado para aplicaciones de pulverización a altas temperaturas.

 

Aplicaciones:

Industria de semiconductores: los objetivos de pulverización de tántalo se utilizan en la industria de semiconductores para depositar películas finas de tántalo y materiales a base de tántalo para circuitos integrados, microprocesadores,y otros componentes electrónicos.

Industria de la óptica: los objetivos de pulverización de tántalo se utilizan en la industria de la óptica para depositar películas delgadas de tántalo para espejos, filtros y otros componentes ópticos.

Industria aeroespacial: los objetivos de pulverización de tántalo se utilizan en la industria aeroespacial para depositar recubrimientos en naves espaciales y satélites para mejorar su rendimiento y durabilidad.

Dispositivos médicos: los objetivos de pulverización de tántalo se utilizan en la producción de dispositivos médicos, incluidos implantes y sensores de diagnóstico, debido a la biocompatibilidad y resistencia a la corrosión del tántalo.

Industria energética: los objetivos de pulverización de tántalo se utilizan en la industria energética para depositar recubrimientos en partes de reactores nucleares y en pilas de combustible para mejorar el rendimiento y la durabilidad.