Suzhou Haichuan Rare Metal Products Co., Ltd.
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Piastra di tantallo 99,95% Tantale puro bersaglio di sputazione / Piastra / foglio / disco di tantallo

Dettagli del prodotto

Luogo di origine: Cina

Marca: HaiChuan

Certificazione: ISO9001

Numero di modello: 21

Termini di trasporto & di pagamento

Quantità di ordine minimo: 10 kg

Prezzo: $280-300/kg

Imballaggi particolari: Scatole di legno

Tempi di consegna: 10-15days

Termini di pagamento: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram

Capacità di alimentazione: 10ton al mese

Ottenga il migliore prezzo
Punto culminante:

99.95% Obiettivo di Sputtering Puro

,

Obiettivo di sputtering di tantallo

,

Tantalio Disco di piastra

Materiale:
Tantalio
Forma:
abitudine, piatto
Luogo di origine:
Jiangsu, Cina
Applicazione:
Industria
Dimensione:
abitudine
Materiale:
Tantalio
Forma:
abitudine, piatto
Luogo di origine:
Jiangsu, Cina
Applicazione:
Industria
Dimensione:
abitudine
Piastra di tantallo 99,95% Tantale puro bersaglio di sputazione / Piastra / foglio / disco di tantallo

Placca di tantallo 99,95% di Tantalino puro bersaglio di sputazione/placca/foglio/disco di tantallo

 

Un bersaglio per lo sputtering di tantalio è un materiale a forma di disco realizzato in metallo tantallo di alta purezza ed è utilizzato in un processo chiamato sputtering.che abbatte gli atomi dalla superficie bersaglio e li deposita su un substrato per creare un film sottile.

 

 

Nome del prodotto
formula molecolare
Purezza
Specificità
Obiettivo rhenio
Re
4N-5N
Personalizzato per bersaglio aereo, bersaglio rotante, bersaglio tubo, ecc.
Obiettivo tantallo
- Si '.
3N-4N
Obiettivo di niobio
Nb
3N-4N
Obiettivo vanadio
V.
3N-4N
Obiettivo Titanio
Ti
2N5-4N
Obiettivo cromo
Cr
2N5-4N
Obiettivo di rame
Cu
3N-5N
Obiettivo alluminio
Al
2N5-4N
Obiettivo cobalto
Co
3N5
Obiettivo di nichel
Ni
3N-5N
Obiettivo Rutenio
Ru
3N-4N
Obiettivo Iridio
- Sì.
3N-4N
Obiettivo di rodio
Rh
4N
Obiettivo bismuto
Bi
3N-4N
Obiettivo palladio.
Pd
3N-4N
Obiettivo argento.
Ag
4N-5N
Obiettivo oro
- Non lo so.
4N-5N

 

Piastra di tantallo 99,95% Tantale puro bersaglio di sputazione / Piastra / foglio / disco di tantallo 0

 

Caratteristiche:

Alta purezza: gli obiettivi di sputtering di tantallo sono realizzati con metallo tantallo di alta purezza, in genere al 99,99% o superiore, per garantire la massima qualità e consistenza del film sottile depositato.

Dimensioni e forma personalizzabili: i bersagli per lo sputtering di tantallo sono disponibili in varie dimensioni e forme, tra cui rotonde, rettangolari e anulare, per soddisfare i requisiti specifici del processo di sputtering.

Buona conduttività termica ed elettrica: gli obiettivi di sputtering di tantallo hanno una buona conduttività termica ed elettrica, che li rende adatti a una vasta gamma di applicazioni.

Punto di fusione elevato: il tantallo ha un punto di fusione elevato di 2996°C, il che lo rende adatto per applicazioni di sputtering ad alta temperatura.

 

Applicazioni:

Industria dei semiconduttori: gli obiettivi di sputtering di tantallo sono utilizzati nell'industria dei semiconduttori per depositare film sottili di tantallo e materiali a base di tantallo per circuiti integrati, microprocessori,con una lunghezza massima non superiore a 50 mm.

Industria ottica: gli obiettivi di sputtering di tantallo sono utilizzati nell'industria ottica per depositare film sottili di tantallo per specchi, filtri e altri componenti ottici.

Industria aerospaziale: gli obiettivi di sputtering di tantallo sono utilizzati nell'industria aerospaziale per depositare rivestimenti su veicoli spaziali e satelliti per migliorare le loro prestazioni e la loro durata.

Dispositivi medici: gli obiettivi di sputtering del tantalio sono utilizzati nella produzione di dispositivi medici, inclusi impianti e sensori diagnostici, a causa della biocompatibilità e della resistenza alla corrosione del tantalio.

Industria energetica: gli obiettivi di sputtering di tantallo sono utilizzati nell'industria energetica per depositare rivestimenti su parti di reattori nucleari e in celle a combustibile per migliorare le prestazioni e la durata.