Dettagli del prodotto
Luogo di origine: Cina
Marca: HaiChuan
Certificazione: ISO9001
Numero di modello: 21
Termini di trasporto & di pagamento
Quantità di ordine minimo: 10 kg
Prezzo: $280-300/kg
Imballaggi particolari: Scatole di legno
Tempi di consegna: 10-15days
Termini di pagamento: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacità di alimentazione: 10ton al mese
Materiale: |
Tantalio |
Forma: |
abitudine, piatto |
Luogo di origine: |
Jiangsu, Cina |
Applicazione: |
Industria |
Dimensione: |
abitudine |
Materiale: |
Tantalio |
Forma: |
abitudine, piatto |
Luogo di origine: |
Jiangsu, Cina |
Applicazione: |
Industria |
Dimensione: |
abitudine |
Placca di tantallo 99,95% di Tantalino puro bersaglio di sputazione/placca/foglio/disco di tantallo
Un bersaglio per lo sputtering di tantalio è un materiale a forma di disco realizzato in metallo tantallo di alta purezza ed è utilizzato in un processo chiamato sputtering.che abbatte gli atomi dalla superficie bersaglio e li deposita su un substrato per creare un film sottile.
Caratteristiche:
Alta purezza: gli obiettivi di sputtering di tantallo sono realizzati con metallo tantallo di alta purezza, in genere al 99,99% o superiore, per garantire la massima qualità e consistenza del film sottile depositato.
Dimensioni e forma personalizzabili: i bersagli per lo sputtering di tantallo sono disponibili in varie dimensioni e forme, tra cui rotonde, rettangolari e anulare, per soddisfare i requisiti specifici del processo di sputtering.
Buona conduttività termica ed elettrica: gli obiettivi di sputtering di tantallo hanno una buona conduttività termica ed elettrica, che li rende adatti a una vasta gamma di applicazioni.
Punto di fusione elevato: il tantallo ha un punto di fusione elevato di 2996°C, il che lo rende adatto per applicazioni di sputtering ad alta temperatura.
Applicazioni:
Industria dei semiconduttori: gli obiettivi di sputtering di tantallo sono utilizzati nell'industria dei semiconduttori per depositare film sottili di tantallo e materiali a base di tantallo per circuiti integrati, microprocessori,con una lunghezza massima non superiore a 50 mm.
Industria ottica: gli obiettivi di sputtering di tantallo sono utilizzati nell'industria ottica per depositare film sottili di tantallo per specchi, filtri e altri componenti ottici.
Industria aerospaziale: gli obiettivi di sputtering di tantallo sono utilizzati nell'industria aerospaziale per depositare rivestimenti su veicoli spaziali e satelliti per migliorare le loro prestazioni e la loro durata.
Dispositivi medici: gli obiettivi di sputtering del tantalio sono utilizzati nella produzione di dispositivi medici, inclusi impianti e sensori diagnostici, a causa della biocompatibilità e della resistenza alla corrosione del tantalio.
Industria energetica: gli obiettivi di sputtering di tantallo sono utilizzati nell'industria energetica per depositare rivestimenti su parti di reattori nucleari e in celle a combustibile per migliorare le prestazioni e la durata.