Suzhou Haichuan Rare Metal Products Co., Ltd.
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Placa de Tântalo 99,95% Alvo de pulverização de Tântalo puro / Placa de Tântalo / Folha / Disco

Detalhes do produto

Lugar de origem: China

Marca: HaiChuan

Certificação: ISO9001

Número do modelo: 21

Termos do pagamento & do transporte

Quantidade de ordem mínima: 10 kg

Preço: $280-300/kg

Detalhes da embalagem: Caixa de madeira

Tempo de entrega: 10-15days

Termos de pagamento: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram

Habilidade da fonte: de 10 toneladas pelo mês

Obtenha o melhor preço
Destaque:

99.95% alvo puro de pulverização

,

Alvo de pulverização de tântalo

,

Tântalo Disco de placa

Materiais:
Tântalo
Forma:
costume, placa
Lugar de origem:
Jiangsu, China
Aplicação:
Indústria
Tamanho:
costume
Materiais:
Tântalo
Forma:
costume, placa
Lugar de origem:
Jiangsu, China
Aplicação:
Indústria
Tamanho:
costume
Placa de Tântalo 99,95% Alvo de pulverização de Tântalo puro / Placa de Tântalo / Folha / Disco

Placa de Tântalo 99,95% Alvo de pulverização de Tântalo puro/placa/folha/disco de Tântalo

 

Um alvo de pulverização de tântalo é um material em forma de disco feito de metal de tântalo de alta pureza e é usado em um processo chamado pulverização.que derrubam átomos da superfície alvo e os depositam num substrato para criar um filme fino.

 

 

Nome do produto
Fórmula molecular
Purificação
Especificações
Alvo de rénio
Re
4N-5N
Personalizado para alvo de avião, alvo rotativo, alvo de tubo, etc.
Alvo de tântalo
- Não.
3N-4N
Alvo de nióbio
Nb
3N-4N
Alvo de vanádio
V
3N-4N
Alvo de titânio
Ti
2N5-4N
Alvo de cromo
Cr
2N5-4N
Alvo de cobre
Cu
3N-5N
Alvo de alumínio
Al
2N5-4N
Alvo de cobalto
Co
3N5
Alvo de níquel
Não.
3N-5N
Alvo de rutênio
Ru
3N-4N
Alvo de irídio
Não.
3N-4N
Alvo de ródio
RH
4N
Alvo bismuto
Bi
3N-4N
Alvo de paládio.
Pd
3N-4N
Alvo prateado
Ag
4N-5N
Meta de ouro
Au
4N-5N

 

Placa de Tântalo 99,95% Alvo de pulverização de Tântalo puro / Placa de Tântalo / Folha / Disco 0

 

Características:

Alta pureza: os alvos de pulverização de tântalo são feitos de metal de tântalo de alta pureza, tipicamente 99,99% ou superior, para garantir a mais alta qualidade e consistência do filme fino depositado.

Tamanho e forma personalizáveis: os alvos de pulverização de tântalo estão disponíveis em vários tamanhos e formas, incluindo redondo, retangular e anular, para atender aos requisitos específicos do processo de pulverização.

Boa condutividade térmica e elétrica: os alvos de pulverização de tântalo têm boa condutividade térmica e elétrica, tornando-os adequados para uma série de aplicações.

Ponto de fusão elevado: o tântalo tem um ponto de fusão elevado de 2996°C, tornando-o adequado para aplicações de pulverização a altas temperaturas.

 

Aplicações:

Indústria de semicondutores: os alvos de pulverização de tântalo são utilizados na indústria de semicondutores para depositar películas finas de tântalo e materiais à base de tântalo para circuitos integrados, microprocessadores,e outros componentes eletrónicos.

Indústria de ótica: os alvos de pulverização de tântalo são usados na indústria de ótica para depositar filmes finos de tântalo para espelhos, filtros e outros componentes ópticos.

Indústria aeroespacial: os alvos de pulverização de tântalo são utilizados na indústria aeroespacial para depositar revestimentos em espaçonaves e satélites para melhorar o seu desempenho e durabilidade.

Dispositivos médicos: os alvos de pulverização de tântalo são utilizados na produção de dispositivos médicos, incluindo implantes e sensores de diagnóstico, devido à biocompatibilidade e resistência à corrosão do tântalo.

Indústria da energia: os alvos de pulverização de tântalo são utilizados na indústria da energia para depositar revestimentos em partes de reatores nucleares e em células de combustível para melhorar o desempenho e a durabilidade.